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    化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備

    簡(jiǎn)要描述:化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類(lèi)化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級(jí)、改性等。

    • 產(chǎn)品型號(hào):NP-CMP
    • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    • 更新時(shí)間:2023-12-20
    • 訪  問(wèn)  量:4248

    詳細(xì)介紹

    化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類(lèi)化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級(jí)、改性等。

    化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備的特點(diǎn):

    經(jīng)過(guò)測(cè)試的工藝路線,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)                    

    智能控制,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),完整數(shù)據(jù)存儲(chǔ),直觀顯示圖表

    轉(zhuǎn)速可調(diào),溫度可控,超聲波強(qiáng)度可調(diào),可定時(shí)

    操作方便簡(jiǎn)潔,清洗容易  


    技術(shù)參數(shù):

    Items

    實(shí)驗(yàn)型Experiment   Type

    生產(chǎn)型Production   Type

    溫度Temperature(℃)

    -30~80

    -20℃~80

    分散方式Dispersion   Type

    連續(xù)式continuous

    連續(xù)式continuous

    材質(zhì)Material   quality

    玻璃不銹鋼、鈦   glass or   stainless steel

    不銹鋼、鈦stainless   steel

    規(guī)格Specification

    依容積depend   on volume

    定制customized

    流量Flow   rate

    50~1000ml/min

    可定制customized

    介質(zhì)粘度media   viscosity

    104cP

    104cP

    攪拌轉(zhuǎn)速agitation   speed

    500~3000rpm依實(shí)際需求選擇

    500~3000rpm依實(shí)際需求選擇

    剪切轉(zhuǎn)速agitation   speed

    1400~20000rpm依實(shí)際需求選擇

    1400~12000rpm依實(shí)際需求選擇

    電源Power

    220V/50Hz

    220V/50Hz   、380V/50Hz

    超聲功率Ultrasonic   power

    200~3000W

    定制customized

    超聲頻率Ultrasonic   Frequency

    20KHz、28KHz、40KHz、68KHz

    20KHz、28KHz、40KHz、68KHz

    顯示方式Display   model

    數(shù)顯、液晶觸摸屏digital   display,LCD   touch screen 依據(jù)需要可選擇

    液晶觸摸屏LCD   touch screen

    其它Others

    溫度、功率可調(diào)Temperaturepower   adjustment



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